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加熱型基本提拉鍍膜機(jī)

簡(jiǎn)要描述：DP100-BE-H型提拉鍍膜機(jī)是一款適用于液相鍍膜制備而設(shè)計(jì)的精密儀器，可實(shí)現(xiàn)智能化編程控制。 DP100-BE-H提拉鍍膜機(jī)是一款加熱基本型提拉鍍膜機(jī)，可自動(dòng)完成在鍍膜溶液中多次鍍膜之需求，重復(fù)鍍膜次數(shù)可達(dá)999次。所有運(yùn)行參數(shù)如運(yùn)行速度，提拉/浸漬高度，浸漬時(shí)間，間隔時(shí)間，重復(fù)鍍膜次數(shù)等均可在觸屏上方便設(shè)置。

所在城市：無(wú)錫市
廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
更新日期：2024-09-23
訪(fǎng) 問(wèn) 量：3730

產(chǎn)品分類(lèi)

浸漬提拉鍍膜機(jī)

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浸漬提拉涂膜機(jī)的原理及分類(lèi)

詳細(xì)介紹

品牌	LEBO/雷博	產(chǎn)地類(lèi)別	國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	化工,石油,綜合

　　科研鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

　　需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材?；c靶材同在真空腔中。

　　蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。

　　科研鍍膜機(jī)產(chǎn)品參數(shù)：

　　1.運(yùn)行速度: 0.1-600 mm/min

　　2.行程: 100 mm,位移精度:±0.1 mm

　　3.額定線(xiàn)性推力: >50 N

　　4.浸漬時(shí)間:0-9999.9 s

　　5.重復(fù)鍍膜間隔時(shí)間0-9999.9 s

　　6.重復(fù)鍍膜步驟：1-999次,重復(fù)鍍膜間隔時(shí)間:0-9999.9s

　　7.晶片選擇尺寸：大長(zhǎng)100mm

　　8.4.3寸全彩觸屏，簡(jiǎn)單易用，標(biāo)配觸屏筆操作

　　9.結(jié)構(gòu)緊湊，易于放置在手套箱內(nèi)使用

　　10.自帶幫助功能，對(duì)初次使用者提供使用向?qū)Чδ?br />

　　11.提供手動(dòng)上下高度調(diào)節(jié)，方便位置設(shè)置

　　12.可命名存貯100組鍍膜程序，方便隨時(shí)調(diào)用

　　13.產(chǎn)品外形尺寸：227(W)*350(D)*416(H)

在DP100-BE基礎(chǔ)上增加底部加熱功能：

　　1.控溫范圍：室溫到120℃(更高溫度可定制)

　　2.高精密數(shù)顯溫控表控制，控溫精度：±0.5℃

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